第三百九十六章 投影曝光[第3页/共3页]

“呃，谈谈你手里的技术。”鹤田老脸一红，如许的窜改未免过分生硬了一些，不过这时候却也顾不得了：“说实话为了实现利润最大化，现在就公布投影步进式光刻技术并不是一个好主张。要我说大可当作储备技术，等我们在沉浸式光刻机上面赚到对劲以后，再放出这项技术来。”

就仿佛挪动吞了用户的月残剩流量，绝大多数挪动收集用户都不会说这不公道，即便不公道也要有这个本钱去和把持本钱构和啊！

他现在拿出来的这份文件，天然就是投影式光刻机的技术专利，能够说这项技术一出防水光刻胶就是一个废料了！

他对反复投影式暴光技术并不陌生，如果说沉浸式光刻技术是左道傍门，那投影式暴光就是王谢正道！光刻机晋升机能的首要体例，大多都是通过增加光学体系精度实现的――而反复投影暴光技术，能够说是将这类思路持续到了极致！

鹤田刚开端还不觉得然，在他的内心早就已经以为泛翰个人是砧板上的鱼肉。那里另有甚么翻盘的机遇？

对于沉浸式光刻技术而言。投影式暴光技术最大的好处就是――制止了利用防水光刻胶的高本钱。

除了沉浸式光刻技术这类独辟门路的取巧之道，日本人毫不信赖泛翰个人还能在其他方向产生冲破，他们手里的底牌也就是仅此罢了。

0.25微米工艺光刻机想要持续打仗式暴光，全部体系需求的机器紧密程度，掩膜版的本钱、掩膜版和硅片的打仗紧密度，体系的集成难度都开端了多少级数的增加。

“如何，尼康现在不想把我扫地出门了？”周硕低头抠动手指甲，心不在焉的问道。

掩膜版投射的镜头需求与硅片停止完整的打仗，打仗中乃至要抽成真空状况。然后光源体系的激光打到掩膜版上，投影部分的光刻胶就会被蒸发掉。把如许的晶圆放到蚀刻机内里，化学药品就会将没有覆盖光刻胶的部分腐蚀掉，然后再把晶圆转移到离子注入机长停止离子注入……