第一九六章 浸没式光刻技术[第2页/共2页]

乐远眼睛一亮，这但是不测之喜，看这模样，刘言他们果然是有掌控冲破到32nm工艺的。

这是ibm公司在08年09年那两年开辟出的一种技术，现在这个时候段他们还没有开辟出来。

当然，现在的ibm还没有走上这条路，而让刘言他们先走了一步。

“按照瑞利衍射道理，我们能够算出193nm淹没式光刻机的辩白率，从成果能够看得出来，淹没式光刻的特性尺寸缩小为传统光刻的n分之一，相称于有效暴光波长缩小为本来的n分之一。”

“我们都是晓得，淹没式光刻技术需求在光刻投影物镜最后一个透镜的下大要与硅片上的光刻胶之间充满高折射率的液体，就像这个图。”刘言敲了敲大字幕，上面投影仪投射出一幅示企图。

不过这些都不是大题目，他们卖力记着法则，应用法则，而刘言他们则是需求在这个根本上突破法则，创建法则。

不是说你教了他一加一即是二，他算不出来一加二即是三的那种。

讲完课的刘言还是精力抖擞的模样，笑着点头，“谈不上辛苦，这本来就是我们的本职事情。”

不过阿谁时候没有这么多人，导师也只带了四个门生，讲堂上另有发问和互动，跟现在只是刘言一小我在说有些分歧。

而是你教了他们加法，他们永久都研讨不出来乘法。

跟intel庞大的用料及工艺流程分歧，星空公司没无益用高k，因为星空公司有一种近似与soi工艺的技术。

以是说，他们这些机器人跟刘言他们这些人相辅相成，加在一起有着奥秘的加成。

对于这个题目，刘言本来就想问的，不过乐远解释了，他也没有再说甚么，笑道，“没干系的，现在也不急，渐渐来。”

“这么成熟的193nm淹没式光刻技术，我只传闻过adm有！”

“而气隙技术，能够在32nm芯片的金属线间制造完整的真空状况，以减少互连层百分之三十到四十的寄生电容，详细的数字还要今后持续尝试才气得出来。”

刘言他们走了一条跟ibm一样的路，起码在超低k电介质方面是完整一样的。

散了这个会以后，大师又各自回到本身的岗亭上开端了本身的研讨事情。

刘言一开端提到了adm，确切，星空科技公司的45nm工艺跟adm比较相像。

他们能够敏捷熟谙法则，应用法则，却没法突破法则，创建法则。

实在没甚么辨别，独一辨别就是光刻胶和投影物镜之间的空间变成了液体。

“不轻易啊，我本来觉得逆向45nm工艺要花很多时候，想不你们不但大大收缩了这个时候，并且还在此根本上有了冲破。”乐远赞叹道。

乐远笑着走到刘言面前，“刘教员，真是辛苦你了。”

又听了一个多小时，刘言才在气隙技术的缺点和需求处理的题目中结束了讲授。

“而这项技术上面我们有的首要题目，就是淹没液体，液体淹没体例，大数据孔径……”