158 日韩半导体战争[第1页/共4页]

1960年日本人胜利研制了第一块晶体管集成电路；1963年研制MOS型晶体管。特别是1962年米国人对日本人开放当时环球半导体产业最早进的平面制造工艺技术，使得日本人几近一夜之间就获得集成电路的出产制造技术。

对于质料体味越多，晓得的越深切，庞煖越认识到。天朝和米国半导体产业的差异，是全方位的差异，而不是仅仅一两个环节。

就像武侠小说中，再深厚的内功，也需求根骨奇佳的门徒呀。

三家米国公司是英特尔、德州仪器和莫斯泰克。

至此，米国人在环球DRAM内存市场成为仅次于韩国人的存在，环球DRAM市场份额从10%晋升到25-30%。

日本DRAM和半导体产业产值在环球市场占有率中的生长趋势：官产学三位一体、举国体制的国度力量、财产链上游延长。

尔必达与天朝台湾省的力晶半导体建立联盟以对抗韩国人。

在一年时候内，米国度用电脑出货量从4.8万台，暴增到20万台，家庭电脑的高速增加，对存储器芯片产生了大量需求，日本人在DRAM核心技术的科技红利抢先，这给日本DRAM厂商带来了抢占米国市场的机遇。

由日本当局出资320亿日元，日立、NEC、富士通、三菱、东芝五至公司结合筹资400亿日元。

日本在64M DRAM关头技术有效研发投入上大大掉队于韩国人，日本人就此错失了第二次、第三次环球半导体硅含量晋升周期，错失PC、条记本、手机等快速提高的市场红利。

第一，摸索和思虑DRAM将来的演进方向，并建立目标以及演进途径。

1960年起日本构成“官产学”三位一体的体系，即当局、企业和大学结合对集成电路技术停止攻关。

本身就算拿到100亿美金全款，全数投入半导体行业，在这类国度级的合作面前，只是微不敷道。

日本人向米国粹习，在米国人的搀扶下开端建立本身完整的半导体产业体系，并构成了本身国度在科技冲破上的研发体系。

第二研讨室，富士通公司，卖力研制可变尺寸矩形电子束扫描设备，室长：中村正。

米国人开端在微措置器CPU、逻辑、摹拟芯片等发力并稳固环球核心合作力，使得米国人占有了环球半导体产业产值的半壁江山。

但是，微不敷道也能够进献本身的一份力量。

但是，最为关头的出产制程设备和原质料首要来自米国，为了补足短板，日本人构造800名技术职员停止重点攻关，共同研制高机能的国产化DRAM出产设备，不但实现64K DRAM和256K DRAM的商用化，也实现1M DRAM商用化的关头出产制程设备。

直到明天，日本人很多行动为后代很多科技掉队国度实现科技冲破，供应很好的鉴戒意义。

在科技红利之有效研发投入上，远远超越米国人，这才是日本人得胜的本质。

米国三家最好DRAM公司的芯片分歧格率，比日本三家DRAM公司的芯片分歧格率，整整高出6倍。

第五研讨室，三菱电机，开辟制程技术与投影暴光设备，室长：奥泰二。

第二，研发文明的抵触，特别是技术途径的分歧庞大。比如在64M进级到256M DRAM的技术攻关中，NEC夸大技术体系的同一性，要求在64M的根本上实现技术进级，而日立夸大技术的创新和冲破，要求采取新质料、新布局等新技术寻求技术冲破。NEC以为同一机能包管较高的成品率，而日立则是优先考虑用新技术带来冲破，再去研讨同一性题目。NEC夸大同一性，而日立倡导冲破性，这是两种完整分歧的研发文明，带来的思惟体例完整分歧的，这使得DRAM关头技术研发上，辩论不已、疲塌烦复，完整掉队于韩国人的研发进度。