第二百九十九章 摩尔定律你听说过没有[第2页/共2页]

08尝试室正在研制的光刻胶，也是国度半导体后备技术的一部分。

光刻胶由树脂、感光剂、溶剂和增加剂构成，此中的感光剂在光芒晖映下会产生反应，使暴光区的光刻胶溶解，这就相称于把掩膜上的电路图案复制到了芯片基材上。

“徐师兄，我听毕主任说，你们正在研讨的是G线光刻胶。对于i线以及KrF光刻胶，你们有没有触及？”高凡问道。

光刻胶中感光剂的挑选，与光源是密切相干的，这触及到化合物在分歧波长光芒感化下的窜改，机理非常庞大。

摩尔定律是1965年提出的，不过直到70年代中期才遭到人们的正视。跟着集成电路技术的迅猛生长，摩尔定律一再获得印证，一时候在西方科技界和财产界倍受推许。

高凡对于国度的团体战略并不非常体味，但在他从云中明那边听到“光致抗蚀剂”这个词的时候，他就产生出了一个动机：

“i线光刻胶这方面，毕主任在尝试室集会上提过几次，让大师偶然候做一些堆集，不过目前前提还不成熟。再至于说KrF光刻胶，仿佛外洋也方才开端研讨吧？”

可这并不料味着枫林研讨所的保密轨制就是多余的。保密的目标在于让敌手不清楚我们的研讨进度到了哪一步，不管对方高估或者低估了我们的程度，都会在疆场博弈或者经济博弈中犯下一些或大或小的弊端，而这些弊端，能够就会成为我们的机遇。

随后，再停止蚀刻、离子注入、封装等操纵，一枚芯片就制作完成了。

“我想跟你说的，就是这个。”高凡说，“对了，徐师兄，摩尔定律你传闻过没有？”

但是，国度却仍然向枫林研讨所下达了研制光刻胶的任务，其目标就是为了万一遭碰到外洋的封闭，海内本身也能够供应出合用的光刻胶，确保少数干系国度安然的集成电路的出产不受影响。

枫林研讨所研讨的很多技术，都具有如许的特性。比拟西方国度而言，这些技术均匀要掉队一至两代，即便送给别人，人家也不屑一顾。

此时的中国，在环球半导体市场上美满是小透明，底子不具有批评半导体财产生长的资格，是以也就没甚么人会存眷和提及摩尔定律。

“我们为甚么就不能对准国际市场呢？”高凡看着徐云，“造光刻机，需求高紧密机床，我们一时造不出来。但是光刻胶的技术没多高的门槛，我们为甚么不能提早一步占据这个市场呢？”

“你说i线光刻胶的前提不成熟，是指甚么？”高凡问道。